4腔单晶圆水平电镀工艺设备
4腔单晶圆水平电镀工艺设备
技术特点 Features
· 片内均匀性：＜4%，片间均匀性：＜3%，重复性：＜3%，COP：＜10µm。
· 90%部件本土化，本地软件团队，有独立的设计和专利。
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